Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm
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DY: Dynamik und Statistische Physik
DY 15: Gläser II
DY 15.8: Vortrag
Montag, 23. März 1998, 16:15–16:30, H2
Zur Diffusion in einer unterkühlten SiO2–Schmelze: Eine Computersimulation — •Jürgen Horbach, Walter Kob und Kurt Binder — Institut für Physik, Staudingerweg 7, Johannes Gutenberg–Universität, D-55099 Mainz
Im Temperaturbereich 2750K ≤ T ≤ 6100K untersuchen wir mit Hilfe einer Molekular–Dynamik–Simulation die Diffusion in einer unterkühlten SiO2–Schmelze. Die Diffusionskonstanten DO und DSi zeigen bei tiefen Temperaturen, in Übereinstimmung mit dem Experiment, ein Arrhenius–Verhalten, während bei hohen Temperaturen starke Abweichungen dazu auftreten. Das Arrhenius–Verhalten steht in Zusammenhang mit Hopping–Prozessen, was wir anhand der van Hove–Korrelationsfunktion demonstrieren. Ferner diskutieren wir die Größe Pb(t), welche die Wahrscheinlichkeit angibt, daß eine Si–O–Bindung, die zur Zeit t=0 vorhanden war, auch noch zur Zeit t besteht. Aus Pb(t) kann man die Lebensdauer τ(T) einer Si–O–Bindung ablesen. Wir finden, daß τ(T) die gleiche Temperaturabhängigkeit wie DO−1 hat.