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Heidelberg 1999 – scientific programme

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K: Kurzzeitphysik

K 7: Laser-Anwendungen/-Materialbearbeitung

K 7.4: Talk

Thursday, March 18, 1999, 17:15–17:30, GE1

Laserunterstütztes Trockenätzen (LDE) von Glas mittels cw-UV-Laserstrahlung — •M. Jacquorie, E.W. Kreutz und R. Poprawe — Lehrstuhl für Lasertechnik, RWTH Aachen, Steinbachstraße 15, D-52074 Aachen

Die Mikrostrukturierung von Glas mit einem laserunterstützten Fluor-Trockenätzprozeß in einer reaktiven Prozeßgasatmosphäre aus F2, Ar und MMA wird untersucht. Zur effektiven Anregung der Prozeßgasatmosphäre wird ein frequenzverdoppelter Ar+-Ionenlaser (λL=257 nm) verwendet. Die Herstellung von anisotrop geätzten Strukturen soll durch PMMA-Passivierungsschichten ermöglicht werden, die in-situ mittels mikrowellenunterstützter Radikalkettenpolymerisation oder Laser-induced Chemical Vapour Deposition (LCVD) von MMA auf den Strukturkanten und der nicht zu bearbeitenden Glasoberfläche deponiert werden.
Der Zusammenhang der Ätzrate AGlas und der Oberflächenrauheit RZ der prozessierten Glasoberfläche mit dem F2-Partialdruck pF2 und der Leistungsdichte der Laserstrahlung PL wird dargestellt. Die Selektivität des Ätzprozesses APMMA/AGlas und die Abhängigkeit der Kantensteilheit der Mikrostrukturen vom MMA-Partialdruck pMMA wird untersucht. Die den experimentellen Ergebnissen zugrunde liegenden physikalischen und chemischen Prozesse werden beschrieben, z.B. wird die Ätzrate AGlas durch ein thermisches Desorptionsmodell mit der Oberflächentemperatur TGlas korreliert.

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