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P: Plasmaphysik

P 25: Dichte Plasmen (Poster)

P 25.10: Poster

Tuesday, March 16, 1999, 16:30–19:00, PY

Veränderungen der VUV-Spektren von laserproduzierten Plasmen bei wiederholtem Beschuss einer Targetposition — •T. Atwee, L. Aschke und H.-J. Kunze — Ruhr-Universität Bochum, Institut für Experimentalphysik V, 44780 Bochum

Wir stellen Untersuchungen der VUV-Spektren (6-20 nm) von laserproduzierten Bor-Nitrid-Plasmen vor. Der Strahl eines Rubinlasers mit 3 J Energie und 20 ns Pulsdauer wird auf die Oberfläche eines Targets aus gesintertem hexagonalen Bor-Nitrid fokussiert. Der Fokusdurchmesser auf der Oberfläche des Targets beträgt 0,5 mm. Nach 20 Schüssen auf die gleiche Targetposition ist ein Loch von 2,2 mm Tiefe entstanden. Wir präsentieren sowohl zeitintegrierte Spektren als auch Messungen mit gepulsten Mikrokanalplatten, die an einen Flat-Field-Spektrographen gekoppelt sind. Eine Abbildung der Plasmen auf den Eintrittsspalt des Spektrographen mit einem Vorspiegel erlaubt Untersuchungen der Spektren in verschiedenen Abständen zur Targetoberfläche. Die Spektren zeigen Veränderungen einiger Linienintensitätsverhältnisse mit zunehmender Tiefe des produzierten Loches.