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DS: Dünne Schichten

DS 33: Postersitzung

DS 33.1: Poster

Tuesday, March 23, 1999, 09:30–17:30, Aula

Untersuchungen zum Energieeinstrom bei der a-C:H-Schichtabscheidung — •D. Rohde¹, H. Kersten¹, P. Pecher², W. Jacob² und R. Hippler¹ — ¹Univ. Greifswald, Inst. f. Physik, Domstr. 10a, 17487 Greifswald — ²Max-Planck Inst. f. Plasmaphysik, Boltzmannstr. 2, 85748 Garching

Die Eigenschaften plasmadeponierter amorpher, wasserstoffhaltiger Kohlenstoffschichten (a-C:H) werden neben anderen Faktoren auch durch die Substrattemperatur beeinflußt. Deshalb wurde der integrale Energieeinstrom auf das Substrat bei der Deposition von a-C:H-Schichten mittels Magnetronsputtern bzw. in einer Elektron- Zyklotron-Resonanz-(ECR)-Entladung bestimmt. Die Messung mit einer speziell dafür konstruierten Thermosonde basiert auf der Bestimmung des zeitlichen Verlaufs der Substrattemperatur während des Depositionsprozesses. Die einzelnen Beiträge zum Energieeintrag wurden aus Modellrechnungen abgeschätzt. Die dazu notwendigen Daten der Elektronenkomponente des Plasmas und die Zusammensetzung der involvierten Teilchenflüsse konnten aus Sondenmessungen bzw. massenspektrometrischen Untersuchungen gewonnen werden. Die Analyse der abgeschiedenen a-C:H-Schichten erfolgte mittels XPS und XRD. Der Energieeinstrom bei der Deposition im CH₄-ECR-Plasma wird vorwiegend durch Ionen und chemische Reaktionen bestimmt, während der deutlich geringere Energieeinstrom beim Sputtern hauptsächlich durch schnelle Neutrale bestimmt wird.