Münster 1999 – wissenschaftliches Programm
Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe
O: Oberflächenphysik
O 21: Oxide und Isolatoren/Phasenüberg
änge
O 21.14: Vortrag
Mittwoch, 24. März 1999, 17:45–18:00, S10
Raster-Kraft-Mikroskopie an der CaF2(111)-Oberfläche mit atomarer Auflösung — •M. Reichling und C. Barth — Fachbereich Physik, FU Berlin, Arnimallee 14, 14195 Berlin
Durch Spaltung im Ultra-Hochvakuum präparierte Kalziumdifluoridoberflächen wurden mit dem Raster-Kraft-Mikroskop im dynamischen Modus abgebildet. In höchst-aufgelösten Messungen zeigte sich auf glatten Terrassen eine deutliche atomare Periodizität, die in ihrer hexagonalen Symmetrie und Gitterkonstante der für die (111)-Oberfläche von CaF2 erwarteten entsprach. Der Kontrast auf atomarer Ebene ist bestimmt durch Paare aus je einer Erhebung und Einsenkung pro Gitterplatz, wobei die Korrugation in verschiedenen ausgezeichneten Richtungen auf der Oberfläche unterschiedlich ist. Es wird ein Modell für die Abbildung vorgestellt, welches die Erscheinungen anhand der experimentellen Parametern erklärt.
Eine Dosierung mit Sauerstoff während der Messung führt zu einer deutlichen Verbesserung der Bildqualität, was wir auf die Oxidation der Spitze des Kraftmikroskops zurückführen.. Nach 300 L Dosierung konnten wir eine Gruppe atomarer Defekte beobachten, die jeweils aus einem Quartett von Erhebungen und Einsenkungen bestanden. Die Gruppe erwies sich als stabil während des Rasterns von zehn Bildern, und in einem Bild war der Sprung eines Defekts von einem Gitterplatz zum nächsten zu beobachten. Diese Messungen zeigen zum ersten Mal, daß auf einer Fluoridoberfläche eine atomar aufgelöste Abbildung mit dem Raster-Kraft-Mikroskop möglich ist.