Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 22: Nanostrukturen

O 22.1: Vortrag

Mittwoch, 24. März 1999, 14:30–14:45, S1

Nanolithographie metallischer Strukturen mit dem Rasterkraftmikroskop — •T. Hesjedal, H.-D. Wanzenböck, B. Shimbo und J.S. Harris Jr. — Solid State and Photonics Lab., Stanford University, Stanford, CA 94305, USA

Rastersondenmikroskope eignen sich in besonderer Weise zur Erzeugung von Nanostrukturen. Neben rein mechanischen Strukturierungsverfahren liegt der Schwerpunkt in der Ausnutzung der elektronischen Wechselwirkungen zwischen Sonde und Oberfläche. Mit Ausnahme der Manipulation auf der atomaren Skala eignet sich für die Nanolithographie das Kraftmikroskop (AFM) besser als das Tunnelmikroskop, da Abstand und Strukturierungsparameter unabhängig voneinander geregelt werden können.

Unser Interesse liegt in der resistlosen Strukturierung dünner Metallfilme durch lokale anodische Oxidation mit dem AFM. Das Ziel ist die Herstellung von Einzelelektronenbauelementen für den Betrieb bei Raumtemperatur. Es werden verschiedene Materialsysteme vorgestellt und verglichen. Abschließend werden Verbesserungen und Perspektiven der AFM-basierten Nanolithographie diskutiert.