Bonn 2000 – wissenschaftliches Programm

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P: Plasmaphysik

P VI: HV VI

P VI.1: Hauptvortrag

Mittwoch, 5. April 2000, 14:40–15:20, HS IX

Wachtumsprecursor in Beschichtungsplasmen — •A. von Keudell — MPI für Plasmaphysik, Boltzmannstr. 2, 85748 Garching

Plasmen werden vielfach eingesetzt um dünne Schichten auf eine Vielzahl von unterschiedlichen Oberflächen abzuscheiden. Dazu wird zunächst ein Quellgas in einem Plasma dissoziiert und ionisiert und die Vielzahl der Teilchen, die auf die Oberfläche auftreffen, führen zur Schichtbildung. Eine grundsätzliches Problem in diesem Zusammenhang ist die Frage nach dem dominanten Precursor für den Wachstumsprozess. Eine Kenntnis dieses Precursors ermöglicht eine sehr viel gezieltere Optimierung und Kontrolle von Plasmaprozessen. Dieselbe Fragestellung ist in letzter Zeit auch ins Zentrum der Fusionsforschung gerückt, bei der die Re-deposition von Verunreinigungen in einem Fusionsplasma kontrolliert werden muss, um eine gute Performance zukünftiger Experimente sicher zu stellen. In diesem Vortrag werden Experimente und Methoden vorgestellt um den Wachstumsprecusor in Beschichtungsplasmen zu identifizieren. Dies wird am Beispiel von Kohlenwasserstoffplasmen illustriert.