Dresden 2000 – scientific programme

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AKE: Energie

AKE 21: Solartechnik

AKE 21.7: Talk

Tuesday, March 21, 2000, 15:45–16:00, TMATH

Trockener Phosphorsilicatglas (PSG) Abtrag bei Siliziumsolarzellen durch Plasma-Technologie — •Gernot Emanuel und Martin Schnell — Fraunhofer Institut für Solare Energiesysteme, ISE, Oltmannsstr. 22, 79100 Freiburg

Beim Ansatz der Siliziumdünnschichtsolarzellen auf porösem Fremdsubstrat werden Materialien verwendet, die keine naßchemische Prozessierung mehr zulassen. Unter anderem wird ein trockener Prozeß für den Abtrag der PSG-Schicht benötigt, die nach der Diffusion des Emitters zurückbleibt. Hierzu kann die Plasma-Technologie verwendet werden. Es ist ein Reaktiver-Ionen-Ätz-Prozeß (RIE) entwickelt worden, der ein Optimum darstellt bezüglich den Anforderungen von max. Selektivität zwischen PSG und Silizium, max. Ätzrate, min. Schädigung, max. Homogenität und min. Rückständen. Die trockengeätzten Solarzellen sind in ihrer Leistung (16,6%) naßchemisch prozessierten Zellen vergleichbar.