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Regensburg 2000 – scientific programme

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O: Oberflächenphysik

O 11: Postersession (Eröffnung)

O 11.91: Poster

Monday, March 27, 2000, 19:00–22:00, Bereich C

Abstandsmodulation im Rastertunnelmikroskop — •Anne-D. Müller1, Falk Müller1, Anne-D. Müller1,2, Markus Lackinger3, Michael Hietschold1, Angelika Bunk1, Falk Müller1 und Michael Hietschold11TU Chemnitz, Institut für Physik, 09107 Chemnitz — 2Anfatec, Schmidtstr. 63, 08606 Oelsnitz (V) — 3FH München, FB 06, 80335 München

Mit einem Rastertunnelmikroskop (STM) lassen sich simultan zur topographischen auch spektroskopische Informationen über die elektronischen Eigenschaften einer Oberfläche gewinnen, indem man die Tunnelspannung oder den Spitze-Probe-Abstand in gezielter Weise variiert.[1] Beispielsweise kann die Modulation des Abstandes zur Bestimmung von Austrittsarbeitsdifferenzen im STM genutzt werden.[2] In diesem Beitrag wird die gerätetechnische Realisierung einer verbesserten Abstandsmodulation vorgestellt, typische Kenngrösen zusammengefast sowie an Anwendungsbeispielen deren Funktion demonstriert.

[1] F. üller et al., Rev. Sci. Instru. 68 (8), 3104 (1997).

[2] A.-D. üller et al., Appl. Phys. Lett. 74 (20), 2063 (1999).

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