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DS: Dünne Schichten

DS 9: Laserverfahren I

Tuesday, March 27, 2001, 09:30–11:00, S 5.1

	09:30	DS 9.1	In situ Spektroskopie der mit einem VUV-Laser induzierten Oxidation von wasserstoffterminierten Siliziumoberflächen — •Jochen Lambers und Peter Hess
	09:45	DS 9.2	Grenzflächen in laserdeponierten Fe/Ag-Schichtpaketen untersucht mit AES und CEMS — •M. Weisheit, P. Schaaf und H.-U. Krebs
	10:00	DS 9.3	Laser-Kristallisierung dünner Siliziumfilme mit holographisch generierten Intensitätsprofilen — •Christopher Eisele, Tobias Bach, Christoph E. Nebel und Martin Stutzmann
	10:15	DS 9.4	Laserpulsabscheidung von kubischen Bornitridschichten bei hohen Energiefluenzen — •Günter Reiße und Steffen Weißmantel
	10:30	DS 9.5	Gepulste Laserdeposition von Polymerschichten — •E. Süske, P. Schaaf, H. Kijewski und H.-U. Krebs
	10:45	DS 9.6	Excimer Laser Ablation von Gold-beladenen inversen Polystyrol-Block-Poly (2-Vinylpyridin) Mizellen. — •G. Lengl, A. Plettl, P. Ziemann, J. Spatz und M. Möller