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HL: Halbleiterphysik

HL 7: Poster I

HL 7.64: Poster

Monday, March 26, 2001, 10:30–19:00, Rang S\ 3

Selbstorganisierende Polymermasken: Ein neueariger Ansatz für Quantenpunkte — •Michael Haupt¹, S. Miller¹, K. Thonke¹, A. Waag¹, R. Sauer¹, J. Spatz² und M. Moeller² — ¹Halbleiterphysik, Universität Ulm, 89081 Ulm — ²Organische Chemie III, Universität Ulm, 89081 Ulm

Selbstorganisierende Polymermasken können auf Halbleitern als nanolithographische Maske in einem Ätzprozess verwendet werden. Dazu werden Goldkolloide größenkontrolliert in Blockcopolymermizellen erzeugt. Durch Abscheidung eines monomizellaren Films auf Quantenfilmen und anschließende Abtragung der organischen Komponenten in einem Plasmaprozess bleiben hexagonal geordnete Metallcluster auf der Oberfläche zurück. Durch diese Technik können makroskopische Substratflächen mit 10nm großen Clustern mit einem mittleren Abstand einstellbar von 20nm bis 120nm dekoriert werden. Reaktives Ionenstrahlätzen erlaubt den anisotropen Strukturübertrag dieser Metallcluster in einen Quantenfilm zur Erzeugung von Quantenpunkten. Durch Photolumineszenzmessungen können die Quantisierungseigenschaften der geätzten und anschließend überwachsenen Punkte aufgeklärt werden.