Parts | Days | Selection | Search | Downloads | Help

VA: Vakuumphysik und Vakuumtechnik

VA 1: Vakuumverfahrenstechnik: EUV-Lithografie

VA 1.1: Invited Talk

Monday, March 26, 2001, 09:30–10:10, R221

Der Weg zur EUV-Lithografie — •Wolfgang Rupp — Dr. Wolfgang Rupp, Abtl. HL-MT/Rp, Firma Carl Zeiss, 73446 Oberkochen

Um den Anforderungen der SIA-roadmap an die herstellbaren kleinsten Strukturen auf Halbleiter-Wafern gerecht zu werden, müssen immer bessere Lithografie-Maschinen zur Strukturierung der Halbleiter-Bauelemente entwickelt werden. Eine wesentliche Schlüsselkomponente in heutigen Lithografie-Scannern ist selbstverständlich das optische System zur Abbildung der Strukturen in den Photolack. Dieses Optik-System besteht im wesentlichen aus Lichtquelle, Beleuchtungssystem und dem Projektionsobjektiv.

Es wird zunächst zusammengefasst, worin die besonderen Herausforderungen und Limitierungen in den heute verwendeten Systemen liegen und welche Alternativen für die Zukunft der "next generation lithography" infrage kommen. Hierbei spielt besonders die "extrem ultraviolet lithography EUVL" mit der extrem kleinen Belichtungswellenlänge von ca. 13 nm eine bedeutende Rolle. So gibt es weltweit starke Entwicklungsanstrengungen, um zeitgerecht ein industrietaugliches EUVL-Tool zur Verfügung stellen zu können. Es wird beschrieben, welche besonderen Herausforderungen sich hier stellen und was getan wird, diese zu lösen. Besonderes Augenmerk wird auch auf die Entwicklung des optischen Systems gelegt.