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P: Plasmaphysik

P 23: Poster: Plasmatechnologie, Plasma-Wand-Wechselwirkung, Staubige Plasmen, Plasmadiagnostik

P 23.30: Poster

Wednesday, March 20, 2002, 17:40–18:40, HZO Foyer

Oberflächenwellen an einer Quarz-Plasma-Grenzfläche mit transversaler Inhomogenität — •Axel Decker, Axel Schwabedissen und Jürgen Engemann — Forschungszentrum für Mikrostrukturtechnik - fmt, Bergische Universität GH Wuppertal, Obere Lichtenplatzer Str. 336, 42287 Wuppertal

Bei großflächigen, planaren Mikrowellenplasmen stellen Oberflächenwellen an einer Quarz-Plasma-Grenzfläche ein Konzept zur homogenen Plasmaerzeugung dar. Die Ausbreitungseigenschaften entlang der Grenzfläche sind vom transversalen Verlauf der Elektronendichte abhängig, bei ausreichend hohen Elektronendichten kann ein 2-Schicht-Modell (Quarz, überkritisches Plasma mit konstanter Dichte) angenommen werden. Im Experiment wurden jedoch Ausbreitungs- eigenschaften der Oberflächenwelle beobachtet, die nicht mehr durch ein 2-Schicht-Modell beschrieben werden können. 3D-Simulationen der elektrischen Feldverteilungen mittels MAFIA zeigen gute Übereinstimmung mit gemessenen Plasmadichteverteilungen, wenn folgende Schichtenfolge angenommen wird: Quarz, unterkritisches Plasma, kritisches Plasma, überkritisches Plasma. Diese Schichtenfolge kann aus Ionenstrommessungen hergeleitet werden. Die beobachtete 2D-Plasmadichteverteilung parallel zur Quarzoberfläche wird am besten durch die Feldverteilung zwischen unterkritischer und kritischer Schicht wiedergegeben.