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K: Kurzzeitphysik
K I: HV I
K I.1: Invited Talk
Tuesday, March 9, 2004, 10:30–11:00, A
Gasentladungsbasierte Strahlungsquellen im extremen Ultraviolett — •Klaus Bergmann — Institut für Lasertechnik, Steinbachstr. 15, 52074 Aachen
Die Erzeugung von extrem ultravioletten Licht aus dichten, heissen Plasmen aus einer Gasentladung wird seit vielen Jahrzehnten untersucht. Getrieben durch die Aktivitäten der Halbleiterindustrie im Bereich der extrem ultraviolett Lithographie ist allerdings erst in den letzten Jahren ein enormer technologischer Fortschritt unter den Aspekten wie Lebensdauer, mittlere Strahlungsleistung oder Wiederholfrequenz erzielt worden.
In diesem Vortrag wird der Entwicklungsstand von Quellen für den Einsatz in der EUV-Lithographie vorgestellt, für die mittlere Strahlungsleistungen im Kilowattbereich bei Frequenzen über 7 Kilohertz und Lebensdauern über 1010 Pulse gefordert werden. Ferner wird auf das Potenzial für mögliche Anwendungen solcher Strahlungsquellen auch ausserhalb des Einsatzes in der Halbleiterindustrie eingegangen.