Berlin 2005 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 23: Postersitzung I

DS 23.38: Poster

Freitag, 4. März 2005, 16:00–18:30, Poster TU B

Wachstum von YSZ-Schichten auf amorphen Substraten — •Jens Uhlig¹, M. Beck¹, F. Schmidl¹, J. Kräußlich², H. Wald¹ und P. Seidel¹ — ¹Institut für Festkörperphysik FSU Jena — ²Institut für Optik und Quantenelektronik FSU Jena

Im Rahmen der Arbeit wird das Wachstum von Yttrium-stabilisierten Zirkonoxid (YSZ) auf amorphen Substraten nach Abscheidung mittels Pulsed Laser Deposition (PLD) untersucht. Dabei wird im speziellen auf die Abhängigkeiten von Sauerstoff/Argon Partialdruck, Temperatur, Abscheidungsrate, Teilchenenergie und Winkel, texturierendem Einfluß eines gerichteten Ionenstrahles sowie Ausheilungsprozessen eingegangen. Als Untersuchungsmethoden werden Röngtendiffraktometrie, Rutherford-Backscattering (RBS) sowie Raster-Elektronenmikroskop (SEM) angewandt.