Berlin 2005 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 24: Postersitzung II

DS 24.19: Poster

Dienstag, 8. März 2005, 17:00–19:00, Poster TU B

Thermisch aufgedampfte, epitaktische Eu:LuSc2O3-Filme auf alpha-Al2O3 — •Lutz Rabisch, Stefan Ehlert, Sebastian Bär und Günter Huber — Institut für Laser-Physik, Luruper Chaussee 149, 22761 Hamburg

Alpha–Al2O3 ist ein bewährtes Material für optische Anwendungen. In Kombination mit Sesquioxiden wie Lu2O3 oder Sc2O3 können kristalline, wellenleitende Schichtsysteme für vielseitige Anwendungen hegestellt werden.

Wir stellen Eu:(Lu/Sc)2O3–Schichten vor, die mit dem Elektonenstrahl–Verdampfungsverfahren auf Alpha–Al2O3 Substraten aufgebracht wurden. Die Substrate sind in (0001)–Richtung orientiert. Dadurch ist Gitteranpassung zu in <111>–Richtung aufwachsenden Schichten möglich. XRD und Oberflächen–XRD Messungen bestätigen, dass die Schichten epitaktisch aufgewachsen sind. Spektroskopische Untersuchungen zeigen, dass erst bei ultradünnen Schichten (d<10nm) Abweichungen von der Symmetrie von Volumenkristallen auftreten. Im Gegensatz zu EBV–deponierten Y2O3–Schichten sind die (Lu/Sc)2O3–Schichten stabil, was Kristallstruktur und spektroskopische Eigenschaften betrifft.