Düsseldorf 2007 – wissenschaftliches Programm
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SYOH: Symposium Optische Hochleistungsbeschichtungen für den Einsatz in Lasersystemen und anderen Anwendungen
SYOH 7: Poster Optische Hochleistungsbeschichtungen
SYOH 7.5: Poster
Mittwoch, 21. März 2007, 17:30–18:30, Poster A
Reaktives Sputtern von SiOxNy-Schichten für optische Filter — Jörn Weber, •Peter Frach und Hagen Bartzsch — Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl- und Plasmatechnik, Winterbergstr. 28, 01277 Dresden, Deutschland
Der Brechungsindex von Silizium-Oxinitrid (SiOxNy)-Schichten lässt sich innerhalb eines weiten Bereiches zwischen 1.46 und 2.08 einstellen. Diese Schichten eignen sich deshalb für den Einsatz in Dünnschichtfiltern. Reaktives Puls Magnetron Sputtern (PMS) ermöglicht die Hochrateabscheidung dieser Schichten mit einstellbarer Brechzahl durch Änderung der Zusammensetzung des Reaktivgases während des Beschichtungsprozesses. Die Beschichtungsraten liegen dabei entsprechend der Leistung innerhalb eines Bereichs zwischen 50 und 240 nm/min. Mit dieser Technologie lassen sich ohne Prozessunterbrechung an einer Prozessstation durch Gaswechsel Antireflex(AR)- und Filterschichtsysteme abscheiden. Diese können bei schnellem Wechsel der Reaktivgase als HL-Schichtsystem oder bei zeitlich präzise gesteuertem, kontinuierlichem Gaswechsel als Gradientenschichtsysteme abgeschieden werden. Damit ist die leistungsfähige Abscheidung von rugaten Filtern mit völlig neuen optischen Designmöglichkeiten gegeben. Die Schichtsysteme zeichnen sich durch ihre geringe Rauheit, hohe Dichte und sehr gute Temperatur- und Feuchtebeständigkeit aus. Am Beispiel der AR-Beschichtung von Brillenlinsen wird die gute Schichthaftung bei niedriger prozessbedingter Temperaturbelastung auf Kunststoffen demonstriert. Die Eignung für Laserapplikationen mit hoher Energiedichte konnte nachgewiesen werden.