Hannover 2010 – wissenschaftliches Programm

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K: Fachverband Kurzzeitphysik

K 6: Poster

K 6.3: Poster

Donnerstag, 11. März 2010, 16:30–19:00, Lichthof

Atmosphärische Plasmajet-Präzisionsbearbeitung von optischen Materialien — •Hendrik Paetzelt¹, Georg Böhm¹, Thomas Arnold¹, Axel Schindler¹ und Martin Weiser² — ¹Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V., Permoserstr. 15, D-04318 Leipzig — ²Carl Zeiss SMT AG, D-73446 Oberkochen

Reaktive atmosphärische Plasmajets haben ein hohes technologisches Potential zur lokalen Formgebung und Formkorrektur für die verschiedensten Materialien (Quarz, Si, ULE). Es werden Ergebnisse zur Präzisions-Oberflächenformgebung mit hoher Abtragsrate und µm-Genauigkeit und zur Präzisionsoberflächenkorrektur mit geringen Halbwertsbreiten des Bearbeitungswerkzeuges und nm Genauigkeit einer mikrowellen-angeregten Plasmaquelle vorgestellt. Bei einer Anregungsfrequenz von 2,45 GHz wird hierbei ein Ar/He-Plasma erzeugt, welches in Verbindung mit dem Reaktivgas CF₄ zur Bearbeitung von Quarz und anderen siliziumhaltigen Materialien wie ULE und Silizium genutzt wird. Dabei kann die Halbwertsbreite des Plasmajets über ein Blendensystem in einem Bereich von mehreren mm bis zu 500 µm variiert werden. Die Plasmajetparameter wie: Halbwertsbreite, Tiefenrate, Volumenrate wurden in Abhängigkeit von Gaszusammensetzung, Plasmaleistung und Bearbeitungsparametern (Abstand zur Oberfläche, Fahrgeschwindigkeit, Vorschub) experimentell bestimmt. Zudem wurde eine Parameteroptimierung im Hinblick auf die Stabilität der Abtragsfunktion durchgeführt und ihr Einfluss auf die Oberflächenbearbeitung an Modellflächen charakterisiert.