Hannover 2010 – scientific programme
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SYLL: Symposium Lasersysteme und Laseranwendungen: Aktuelle Entwicklungen und Trends
SYLL 2: Anwendungen
Tuesday, March 9, 2010, 16:30–18:30, A 001
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16:30 | SYLL 2.1 | Invited Talk: Laser application for nanophotonics and metamaterials — •Carsten Reinhardt, Wei Cheng, Andrey B. Evlyukhin, Arseniy I. Kuznetsov, Andreas Seidel, and Boris N. Chichkov |
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17:00 | SYLL 2.2 | Invited Talk: Hochleistungs-Ultrakurzpulslaser als neues Werkzeug für die Fertigungstechnik und Oberflächenfunktionalisierung — •Arnold Gillner, Stephan Eifel und Andreas Dohrn |
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17:30 | SYLL 2.3 | Invited Talk: (Ultra-)Kurzpulslaser und Prozesse für Photovoltaikproduktion — •Uwe Stute |
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18:00 | SYLL 2.4 | Invited Talk: Anwendungen neuartiger abstimmbarer ps und fs-Faserlaser im Sichtbaren und NIR — •Wilhelm Kaenders, Thomas Hellerer und Frank Lison |