Stuttgart 2012 – scientific programme

Parts | Days | Selection | Search | Updates | Downloads | Help

SYPD: Symposium Plasma Deposition von funktionellen Schichten

SYPD 2: Plasmatechnik und Anwendungen

SYPD 2.2: Invited Talk

Thursday, March 15, 2012, 14:30–15:00, V57.03

Prozessüberwachung und Kontrolle mit der Multipol-Resonanz-Sonde — •Ralf Peter Brinkmann, Martin Lapke, Jens Oberrath, Christian Schulz, Robert Storch, Tim Styrnoll, Peter Awakowicz, Thomas Mussenbrock, Thomas Musch, Ilona Rolfes und Christian Zietz — Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik

Die bei der ionengestützten Abscheidung dünner optischer und anderer funktionaler Schichten erreichbare Prozessqualität hängt im starken Maße von der Stabilität der eingesetzten Plasmaquelle ab. Die Überwachung und ggf. Regelung solcher Quellen ist daher von besonderer technischer Bedeutung. Im Rahmen des BMBF-Projekts "Plasma und Optische Technologien" (PluTO) wird die Multipol-Resonanz-Sonde (multipole resonance probe, MRP) als eine industrietaugliche und kostengünstige Methode zur Bestimmung von Plasmaparametern untersucht. Dieser Vortrag berichtet über die Entwicklung und Optimierung eines Demonstrators und dessen erfolgreiche experimentelle Charakterisierung in verschiedenen technischen Plasmen. Zwei mögliche Pfade zur Weiterentwicklung der MRP werden vorgestellt, zum einen die in Richtung eines ortsauflösenden Plasma-Diagnostiksystems, zum zweiten die in Richtung eines in-situ Prozessmonitors.