Berlin 2014 – wissenschaftliches Programm

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SYOT: Symposium Plasma und Optische Technologien

SYOT 2: Verbund PluTO: Plasma und optische Technologien

SYOT 2.2: Hauptvortrag

Dienstag, 18. März 2014, 11:20–11:50, SPA Kapelle

Charakterisierung von Prozessen zur plasma-ionengestützten Schichtabscheidung — •Jens Harhausen, Rüdiger Foest, Detlef Loffhagen und Andreas Ohl — Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V., Greifswald, Germany

In der Herstellung von Dünnschichtoptik hat sich die Anwendung von gitterlosen Plasmaquellen etabliert, welche einen Ionenstrahl über einen Expansionsprozess erzeugen. Im Rahmen des BMBF-Verbundprojekts Plasma und Optische Technologien (PluTO) wurde eine Glühkathoden-Gleichstromentladung näher untersucht, um den Mechanismus zur Strahlerzeugung aufzuklären [1]. Die Plasmaparameter, insbesondere die Elektronen-Energieverteilung und die Ionen-Geschwindigkeitsverteilung, wurden hierzu quantitativ erfasst. Die Interpretation der Emission wird durch ein Stoß-Strahlungsmodell unterstützt. Die Kenntnis dieser plasmaphysikalischen Details ist entscheidend zur Optimierung des Beschichtungskonzepts. Im Vortrag werden neuartige Ansätze zur Regelung der Plasmaquelle und Fortschritte bezüglich der Verbesserung der Reproduzierbarkeit vorgestellt. Die Anwendung von In-situ-Diagnostik zur Überwachung der Prozessparameter verspricht eine direkte Kontrolle der Plasmastützung. Es werden Ergebnisse der prozesskompatiblen Emissionsspektroskopie zur Charakterisierung des Plasmas und zur aktiven Regelung des Beschichtungsprozesses diskutiert.

Gefördert durch das BMBF unter Förderkennzeichen 13N10462.

[1] J. Harhausen, R.-P. Brinkmann, R. Foest, M. Hannemann, A. Ohl and B. Schröder Plasma Sources Sci. Technol. 21 (2012) 035012