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Bochum 2015 – wissenschaftliches Programm

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SYOT: Symposium Plasma und Optische Technologien

SYOT 1: Plasma und Optische Technologien I

SYOT 1.1: Hauptvortrag

Dienstag, 3. März 2015, 10:40–11:20, HZO 80

Schichtsysteme für komplexe Anforderungen — •Hans Becker — Carl Zeiss Jena GmbH, Standort Oberkochen

Binäre dielektrische Wechselschicht-Systeme aus zwei hoch- und niederbrechenden Materialien können ein weites Spektrum von Anforderungen erfüllen. Praktisch können damit alle spektralen Anforderungen für senkrechten Einfall des Lichts aus der Luft realisiert werden.

Viele Anwendungen erfordern aber schrägen Einfall des Lichts. Dabei treten Polarisationseffekte auf, da sich die effektiven optischen Indizes für die beiden Polarisationsrichtungen unterscheiden. Wenn die optische Funktionsschicht sich zwischen zwei Gläsern befindet, was bei allen verkitteten Systemen der Fall ist, wird die Polarisationsaufspaltung weiter verstärkt. Die Entwicklung binärer Designs aus nur zwei Brechungsindizes führt hier in der Regel zu sehr komplexen Systemen oder die Spezifikationen können gar nicht erfüllt werden. Zusätzliche Design-Freiheitsgrade in Form weiterer Materialien mit mittleren Brechungsindizes können, diese Designs erheblich vereinfachen oder die Realisierung überhaupt erst ermöglichen.

Dieser Vortrag führt in die Herstellung solcher Schichtsysteme auf der Leybold Helios Magnetron-Sputteranlage ein. Ausgehend von klassischen binären Systemen wird auf Design und Realisierung von Multi-Index Schichtsystemen eingegangen. Realisierte Demonstratoren illustrieren die gegenwärtigen Möglichkeiten zur Herstellung hochkomplexer Filter/Strahlteiler.

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