Bochum 2015 – wissenschaftliches Programm

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SYOT: Symposium Plasma und Optische Technologien

SYOT 2: Plasma und Optische Technologien II

SYOT 2.2: Hauptvortrag

Dienstag, 3. März 2015, 14:30–15:00, HZO 80

Untersuchungen an plasma-ionengestützt abgeschiedenen UV-Schichten auf Aluminiumoxidbasis — •Christian Franke^1,2, Olaf Stenzel¹, Steffen Wilbrandt¹, Norbert Kaiser¹ und Andreas Tünnermann^1,2 — ¹Fraunhofer Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF, Jena, Deutschland — ²Friedrich-Schiller-University, Institute of Applied Physics, Abbe Center of Photonics, Jena, Deutschland

In Zentrum des Beitrags stehen die optischen Eigenschaften von Mischschichten auf Basis von Al2O3-AlF3 bzw. Al2O3-HfO2. Die Schichten wurden durch Co-Deposition durch Elektronenstrahlverdampfung (teilweise mit Plasmastützung unter Nutzung der Leybold APS pro) in einer Leybold Syrus pro 1100 Aufdampfanlage präpariert. Aufgezeigt werden Korrelationen zwischen den optischen Schichteigenschaften (Brechzahl und Extinktionskoeffizient, bestimmt auf Basis spektralphotometrischer Messungen), der Elementkonzentration (auf Basis von EDX-Messungen), sowie den technologischen Präparationsparametern. Es wird weiter gezeigt, dass durch Mischung der genannten Ausgangsmaterialien UV-transparente optische Schichten mit variabel einstellbarer DUV (deep ultraviolet)-Brechzahl zwischen etwa 1.4 und 2.25 präpariert werden können.