Dresden 2020 – wissenschaftliches Programm

Die DPG-Frühjahrstagung in Dresden musste abgesagt werden! Lesen Sie mehr ...

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AIW: Arbeitskreis Industrie und Wirtschaft

AIW 2: AIW Industrietag II

AIW 2.2: Hauptvortrag

Donnerstag, 19. März 2020, 16:00–16:30, DÜL

Photomasks to enable More than Moore — •Guido Überreiter — AMTC Dresden, Germany

Photomasken sind eine wichtige Grundlage der Mikroelektronik und bestimmen über die Auflösung und die Qualität der Fertigung mit. Der deutlich steigende Bedarf an Masken und die Konzentration auf nur wenige Hersteller werden erläutert. Es werden die enormen Anforderungen an die Genauigkeiten der optischen Masken besprochen. Für Technologien kleiner als 12 nm wird auch Extreme UV eingesetzt, was neuartige Masken erfordert.