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Q: Quantenoptik

Q 42: Optik/Optische Technik

Q 42.5: Talk

Thursday, March 6, 1997, 15:00–15:15, N 25

Charakterisierung eines Flatfield-Spektrometers im VUV- und XUV-Bereich — •A. Orisch, G. Jenke, K. Sokolowski-Tinten, and D. von der Linde — Inst. f. Laser- u. Plasmaphysik,Universit"at-GHS-Essen

F"ur die Untersuchung von Harmonischen hoher Ordnung aus fs-lasererzeugten Plasmen wurde ein XUV-Spektrometer f"ur den Wellenl"angenbereich von 10 nm bis 100 nm aufgebaut.
Das Spektrometer besteht aus einem Flatfield-Gitter in Verbindung mit einer "‘thinned, back-illuminated"’ CCD-Kamera. Der experimentelle Aufbau beinhaltet eine Hohlkathoden-Entladungslampe als Kalibrierungsquelle, mit deren Hilfe die Abbildungseigenschaften des Gitters und die Empfindlichkeit der Kamera in diesem Wellenl"angenbereich untersucht wurde.
Bei der Bestrahlung der CCD-Kamera mit VUV-Strahlung kommt es zu einem Strahlenschaden, der sich durch eine Erh"ohung des Dunkelstroms im bestrahlten Bereich der Kamera bemerkbar macht. Es wird eine M"oglichkeit zur Ausheilung der CCD-Kamera vorgestellt.