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AM: Magnetismus

AM 19: Magnetowiderstand I

AM 19.5: Talk

Thursday, March 20, 1997, 11:45–12:00, F4

Optimierung von anwendungsorientierten Spin-Valve Systemen — •Christian Loch¹, W. Maaß², H. Rohrmann¹ und K. Röll¹ — ¹Universität Gh Kassel — ²Balzers Process-Systems, Alzenau

Es wurden mittels Rf Sputtern Spinvalve-Strukturen Co/Cu/Co/FeMn und Py/Cu/Py/FeMn zwischen Tantal Schutzschichten hergestellt. Dabei lag ein homogenes in-plane Magnetfeld von 40 Oe an. Die Substrate waren mit Al₂O₃ beschichtete Siliziumwafer. Untersucht wurden die magnetischen Eigenschaften mit einem VSM und einem B-H Looper, der mit einem Magnetowiderstandsmeßkopf ausgerüstet war. Die Co-Spinvalves zeigten einen maximalen Magnetowiderstand von 7% und eine Empfindlichkeit von 1%/Oe bei einer Feldänderung um ± 10 Oe. Für die Py-Spinvalves waren die entsprechenden Werte 3% Δ R/R und 0,15%/Oe bei ± 20 Oe.

Um eine stabilere Kopplung an den “pinning layer” zu erhalten, wurde FeMn durch NiMn ersetzt. Dessen Spinorientierung läßt sich nicht beim Sputtervorgang einprägen, sondern muß über die Kobaltschicht in einem nachträglichen Temperschritt erreicht werden. Hierzu wurden die Schichten im Vakuum in Magnetfeldern bis 800G getempert und die Veränderung der magnetischen und elektrischen Eigenschaften untersucht.