Münster 1997 – wissenschaftliches Programm
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DF: Dielektrische Festkörper
DF 12: Kristalline Materialien
DF 12.2: Vortrag
Donnerstag, 20. März 1997, 15:50–16:10, R2
Die Bildung von Metallkolloiden in oberflächennahen Schichten von CaF2 und LiF — •N. Bouchaala, M. Huisinga, R. Bennewitz, M. Reichling und E. Matthias — Fachbereich Physik, Freie Universität Berlin
Die Bestrahlung von Fluoridkristallen mit niederenergetischen (typ. 1keV) Elektronen führt zur Erzeugung von F-Zentren und Metallkolloiden in einer Oberflächenschicht, deren Dicke etwa der Eindringtiefe der Elektronen entspricht. Metallische Kolloide in CaF2 und LiF werden mittels optischer Spektroskopie untersucht. Für CaF2 wird gezeigt, daß sowohl die erzeugte Metallmenge als auch die Größe der Kolloide entscheidend von der Temperatur (250 - 400 K) während der Elektronenbestrahlung abhängen. Bei weiterer Aufheizung ohne Bestrahlung findet ein Reifungsprozeß statt, der zu einem Wachstum der Kolloide führt, wobei sich eine für die Temperatur bei der Bestrahlung typische Kolloidgröße einstellt. Die Bildung von F-Zentren, kleinen Aggregaten und Metallkolloiden in LiF unterscheidet sich qualitativ und in der Temperaturentwicklung von den Vorgängen in CaF2. Diese Unterschiede werden im Lichte der unterschiedlichen Defektbeweglichkeiten und Kristallstrukturen diskutiert.