Münster 1997 – scientific programme

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DS: Dünne Schichten

DS 32: Metallische Schichten II

DS 32.4: Talk

Friday, March 21, 1997, 12:30–12:45, H 55

Elektronenstrahllithographie mit Metallkolloiden — •J. Lohau, S. Friedrichowski, G. Dumpich und E.F. Wassermann — Laboratorium für Experimentelle Tieftemperaturphysik, Gerhard-Mercator-Universität GH Duisburg, D-47048 Duisburg

Wir berichten über ein neues Verfahren zur Herstellung von Nanostrukturen mittels Elektronenstrahllithographie. Grundlage dieses neuen Verfahrens ist die direkte Strukturierung von Metallkolloidschichten beim Schreibvorgang. Bei der Belichtung durch den Elektronenstrahl werden die organischen Stabilisatorhüllen, die die einzelnen Metallkolloide umgeben, teilweise zerstört, so daß die Kolloide agglomerieren. Die Stabilisatorreste und die nicht belichteten Kolloide werden in einem geeigneten Lösungsmittel wieder entfernt. Es wird gezeigt, daß auf diese Weise metallisch leitende Nanostrukturen mit minimalen lateralen Abmessungen von 30 nm hergestellt werden können. Mit diesem Verfahren können Nanostrukturen aus verschiedenen Materialien hergestellt werden, obwohl der technisch aufwendige Prozeßschritt der Metallverdampfung entfällt. Insbesondere werden Kolloide, die aus zwei verschiedenen Metallen (Pd, Pt) bestehen, zur Herstellung von bimetallischen Nanostrukturen verwendet.