Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

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M: Metallphysik

M 19: Postersitzung

M 19.3: Poster

Donnerstag, 20. März 1997, 15:00–19:00, Aula

Oxidbildung im massiven metallischen Glas
Zr₄₂Ti₈Cu₁₀Ni_12.5Be _27.5 — •M. Kiene, T. Strunskus und F. Faupel — Technische Fakultät der Universität Kiel, Kaiserstraße 2, 24143 Kiel

Tiefenprofile von Oxidschichten auf dem metallischen Glas
Zr₄₂Ti₈Cu₁₀Ni_12.5Be_27.5 (V4) wurden mit Flugzeit-Massenspektrometrie (TOF-SIMS) und Photoelektronenspektroskopie (XPS) vermessen. Die an Luft oxidierten Proben weisen Oxidschichten von 2–3nm Dicke auf. In diesen sind Zr,Ti und Be stark angereichert, während sich Cu und Ni an der Oxid–Metall–Grenzfläche anreichern. Nach Glühen der Proben bei 610K in Hochvakuum wächst die Oxidschichtdicke auf ca. 5nm an und verändert ihre Zusammensetzung. Ti reichert sich weiter an der Oberfläche an, gefolgt von einem Zr und Be–reichen Bereich, die Cu und Ni Anreicherungen an der Grenzfläche verschmieren.
Die Zr3d-Bindungsenergieen weichen in der Oxidschicht deutlich von denen in ZrO₂ ab, was auf eine Verzerrung der Bindungslängen in dem vermutlich amorphen Mischoxid zurückzuführen ist.
Sauerstoff ist mit XPS bis hin zu 30nm Tiefe nachweisbar. Da die Metallpeaks hier aber keine Oxidkomponenten aufweisen liegt der Sauerstoff in gelöster Form vor.