Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 26: Methodisches (Experiment)

O 26.2: Vortrag

Mittwoch, 19. März 1997, 16:15–16:30, BOT

Adsorptions- und Desorptionsstudien auf Oberflächen mittels PEEM — •M. D. v. Przychowski, G. K. L. Marx und G. Schönhense — Institut für Physik, Johannes Gutenberg-Universität Mainz, D-55099 Mainz

Bei der hochauflösenden (ca. 25 nm) Schwellen–Photoemissionselektronenmikroskopie (PEEM) wird UV-Licht, verwendet, dessen maximale Energie nahe der Austrittsarbeitsschwelle der zu untersuchenden Oberflächen liegt. Schon Austrittsarbeitsänderungen von wenigen zehntel Elektronenvolt verursachen hohe Bildkontraste (bei Materialänderungen, Entmischungen, Korngrenzen und auch Phasengrenzen). Aber auch die Probentopographie läßt sich beobachten. So erscheinen atomare Stufen, an denen die Austrittsarbeit lokal abgesenkt ist, als helle Linien (Smoluchowski Effekt). Da es sich bei dieser Mikroskopie um ein parallel abbildendes Verfahren handelt, können dynamische Vorgänge wie die Adsorption und Desorption von Gasen, wie auch Phasenübergänge und Schichtwachstum in Real-time beobachtet werden. Dazu können die Proben in situ sowohl durch Elektronenbeschuß geheizt als auch mit LN2 oder He gekühlt werden. Solche Adsorptions- und Desorptionsstudien wurden auf polykristallinen Metalloberflächen, sowie auf Graphit durchgeführt. Die Kontraständerungen wurden für verschiedene Kristallite und Stufen orts-, temperatur- und zeitaufgelöst aufgezeichnet.