Münster 1997 – wissenschaftliches Programm
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O: Oberflächenphysik
O VI: HV VI
O VI.1: Hauptvortrag
Dienstag, 18. März 1997, 15:00–15:45, S 10
Elementare Schritte des Wachstums ultrad"unner Oxid-, Oxinitrid- und Nitridschichten auf Basis von intermetallischen Verbindungen — •René Franchy — IGV KFA-J"ulich GmbH, 52425 J"ulich
Die Pr"aparation und Charakterisierung d"unner Schichten stellt ein wichtiges Gebiet der Oberfl"achen- und Materialforschung dar. Werkstoffe, die in der Natur nicht realisiert werden, k"onnen f"ur spezielle Anforderungen "‘ma"sgeschneidert"’ werden (material tailoring). Speziell Oxid-, Oxinitrid- und Nitridschichten bilden eine Gruppe mit enormer technologischer Relevanz (optoelektronische Bauelemente, Katalyse, Korrosion, etc.). In den letzten Jahren konnte gezeigt werden, da"s d"unne wohlgeordnete Oxide (θ-Al2O3 und β-Ga2O3), Oxinitride (θ-AlON) und Nitride (AlN und GaN) auf der Basis von intermetallischen Verbindungen (AlNi und CoGa) hergestellt werden k"onnen. Da diese ultrad"unnen Schichten nichtisolierende Eigenschaften aufweisen, konnten sie mittels Spektroskopien mit langsamen Elektronen wie EELS, AES und LEED sowie anderen oberfl"achenspezifischen Untersuchungsmethoden wie RTM und TDS charakterisiert werden. Die elementaren Schritte der Wachstumsmechanismen werden diskutiert.