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Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

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VA: Vakuumphysik und Vakuumtechnik

VA 3: Ausgasung, Passivierung

VA 3.1: Vortrag

Montag, 17. März 1997, 16:00–16:20, ZH

Plasmaimmersions-Ionenimplantation von Stickstoff in Edelstahl zur Modifikation der Gasabgabe — •Michaela Schulz1, Bernd Garke1, Norbert Schindler1, Reinhard Günzel2 und Christian Edelmann11Otto-von-Guericke-Universität Magdeburg, FNW/IEP/AVP, PF 4120, 39016 Magdeburg — 2Forschungszentrum Rossendorf e.V., Institut für Ionenstrahlphysik und Materialforschung, PF 510119, 01314 Dresden

Mit Hilfe der Plasmaimmersions-Ionenimplantation wird Stickstoff in Edelstahloberflächen eingebaut mit dem Ziel, die Abgabe von Gasen zu beeinflussen. Es zeigte sich bei oberflächenanalytischen Untersuchungen, daß die Einbautiefe des Stickstoffs bei der Implantation stark durch die Probentemperatur beeinflußt wird. Nur bei hinreichend niedriger Temperatur werden die Stickstoffionen entsprechend ihrer Energie implantiert, ansonsten dominiert Diffusion. Die Implantationsparameter wurden dahingehend optimiert, diese Diffusion zu verhindern. Die chemische Konzentrationsverteilung in der Edelstahloberfläche der modifizierten Proben wurde mittels ESCA- und AES-Untersuchungen analysiert. Von ausgewählten Proben wurden Gasabgabemessungen durchgeführt, um Einflüsse der Implantation auf das Gasad- und -desorptions- sowie -diffusionsverhalten zu ermitteln.

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