Parts | Days | Selection | Search | Downloads | Help

P: Plasmaphysik

P 20: Dichte Plasmen V

P 20.4: Talk

Thursday, March 12, 1998, 09:15–09:30, H 15

Schmalbandige EUV Linienstrahler auf Basis laserproduzierter Plasmen — •Guido Schriever, Klaus Bergmann und Rainer Lebert — Lehrstuhl für Lasertechnik, RWTH Aachen, Steinbachstr. 15, 52074 Aachen

Unter Verwendung von Targetelementen mit niedrigen Ordnungszahlen Z emittieren laserproduzierte Plasmen Linienstrahlung im erweiterten ultravioletten (EUV) Strahlungsbereich. Die Emissionscharakteristik für Plasmen verschiedener Targetelemente (Lithium, Stickstoff, Sauerstoff und Fluor) erzeugt durch gepulste Nd:YAG Laserstrahlung wird in einem Wellenlängenbereich um 13 nm untersucht.
Eine monochromatische Röntgenquelle kann durch Kombination von schmalbandiger, freistehender Linienstrahlung in Verbindung mit der relativ breitbandigen Reflexionscharakteristik eines Silizium/Molybdän Multilayerspiegels realisiert werden.
Experimentelle Ergebnisse werden in Verbindung mit einem theoretischen Modell diskutiert, mit dem die Intensität einer Emissionslinie in Abhängigkeit der Laserparameter abgeschätzt werden kann. Die Lyman-α Emission des wasserstoffähnlichen Lithiums wird als intensive, freistehende Linie auf der langwelligen Seite der Silizium Absorptions L-Kante diskutiert.