Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

P: Plasmaphysik

P 27: Plasmatechnologie (Poster)

P 27.2: Poster

Montag, 9. März 1998, 18:00–20:00, P 2

Einsatz der optischen Emissionsspektroskopie zur Analyse des Titannitrid-Beschichtungsprozesses mittels der PACVD-Technik — •M. Eckel¹, P. Hardt², O. Morlock¹ und M. Schmidt² — ¹Institut für Industrielle Fertigung Fabrikbetrieb, Universität Stuttgart, Nobelstraße 12, D-70569 Stuttgart — ²Institut für Niedertemperatur-Plasmaphysik, Robert-Blum-Straße 8-10, D-17489 Greifswald

Für die Steuerung des TiN-Beschichtungsprozesses in industriellen Anla- gen werden Plasmaeigenschaften gesucht, die eine handhabbare Messung während der Beschichtung erlauben und aus denen sich Rückschlüsse auf die sich abscheidende Schicht ziehen lassen.Zur Untersuchung stehen zwei Reaktoren mit unterschiedlichen Volumina (30 l,500 l) zur Verfügung. Der 30 l Reaktor erlaubt ortsaufgelöste Messungen, die den Verlauf der Intensitäten ausgewählter Emissionslinien im Bereich von 300nm bis 800nm von für den Prozeß relevanten Spezies über der Katode zeigen. Die zu variirenden Parameter sind die Gaszusammensetzung und die Strom- dichte. Aufgrund technischer Gegebenheiten erlaubt der 500 l Reaktor nur integrale Messungen. Anhand integraler Messungen an beiden Reaktoren un- ter ähnlichen Bedingungen wird die Skalierbarkeit des Beschich- tungsprozesses und damit die Übertragbarkeit der am kleinen Reaktor gewonnenen Erkenntnisse untersucht.