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P: Plasmaphysik

P 29: Diagnostik (Poster)

P 29.20: Poster

Dienstag, 10. März 1998, 16:00–18:00, P 2

Untersuchung von Silizium mit Emissions– und Absorptionsspektroskopie bei der Plasma–Target–Wechselwirkung — •S. Klenge, K. Hirsch, H. Jentschke und U. Schumacher — Institut für Plasmaforschung, Universität Stuttgart, Pfaffenwaldring 31, D–70569 Stuttgart

Aus Emissions– und Absorptionsmessungen an den Resonanzlinien des Siliziums bei 251 und 288 nm kann auf die Dichte und Geschwindigkeit von erodiertem Silizium bei der Wechselwirkung eines Plasmastrahls mit einem C/C–SiC–Target geschlossen werden. Die Transmissionsverteilungen, Linienverzweigungsverhältnisse, Linienbreiten und –verschiebungen hängen sowohl von der optischen Tiefe als auch von den Strömungsgeschwindigkeiten längs der Sichtlinien ab. Messungen der Linienverzweigungsverhältnisse des Si–Multipletts bei 251 nm und der Linienprofile mit hoher spektraler Auflösung in Abhängigkeit vom Targetabstand und von den Plasmaparametern ergeben hohe optische Tiefen und Linienverschiebungen, aus denen die Si–Neutralteilchendichten und –erosionsraten bestimmt und mit gravimetrischen Messungen verglichen werden.