Bayreuth 1998 – wissenschaftliches Programm

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SYB: Symposium Polymere und kleine Moleküle an Grenzflächen

SYB 1: Polymere und kleine Moleküle an Grenzflächen

SYB 1.1: Vortrag

Dienstag, 10. März 1998, 09:50–10:10, H18

Chemische Oberflächenmuster in ultradünnen Polystyrol-b-Polyvinylpyridin Filmen zur selektiven Abscheidung von Metall-/Metalloxidschichten — •Joachim Spatz¹, Martin Möller¹, Peter Eibeck¹, Thomas Herzog² und Paul Ziemann³ — ¹Universität Ulm, Organische Chemie III, 89081 Ulm — ²Universität Ulm, Abt. Festkörperphysik, 89081 Ulm — ³Universität Ulm, Abt. Festkörperphysik, 89081 Ulm

Induziert durch die Wechselwirkung mit dem Substrat bilden ultradünne Zwei- und Dreiblockcopolymerfilme (1-10nm) an der Luft- Polymergrenzfläche chemisch unterschiedliche Oberflächenmuster wie hexagonal geordnete, sphärische und über weite Bereiche ausgerichtete lineare Cluster im Nanometerbereich. Grundlage ist die selektive Benetzung des Substrats durch einen der Blöcke und die Entnetzung durch den anderen. Es resultieren Oberflächencluster des entnetzenden Blocks, welche durch den benetzenden isoliert mikrophasensepariert sind. Die Muster werden durch Variation der polymeren Parameter eingestellt. In einem zweiten Schritt werden die chemischen Muster zur selektiven Abscheidung von Metall- bzw. Metalloxidschichten auf eine der Polymerdomänen genutzt. Die Metall/Metalloxid Filme weisen eine regelmäßig variierende Filmdicke auf, welche die Oberflächenmuster der ultradünnen Polymerfilme widerspiegeln. Diese Filme werden in Kombination mit Ätzverfahren zur Nanolithographie von Substraten eingesetzt.