Konstanz 1998 – wissenschaftliches Programm

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MS: Massenspektrometrie

MS 7: Poster: AMS, Fallen, MS mit 100 nm Ortsauflösung

MS 7.1: Poster

Dienstag, 17. März 1998, 14:00–18:00, PF

Kombinierte Ionenstrahl-Laserionisation zur ortsaufgelösten Oberflächenanalyse — •U. Müller, M. Schittenhelm und H. Helm — Fakultät f. Physik, Univ. Freiburg, Hermann-Herder-Str.3, 79104 Freiburg

Wir haben ein Gerät zur Oberflächenanalyse entwickelt, in dem von einer Probe mit einem Ionenstrahl gezielt Material abgetragen, mit einem Laser nachionisiert und massenselektiv nachgewiesen wird. Dazu wir ein 25 keV Gallium-Ionenstrahl auf einen Brennfleck von 100 nm fokussiert und rasterförmig über die Probe bewegt. Der überwiegende Teil des abgetragenen Materials liegt in neutraler Form vor und wird mit einem ArF-Excimerlaser (193 nm) oder alternativ mit einem Vakuum-UV-Laser (YAG-Laser, 9.Harmonische bei 118 nm) nachionisiert. Die positiven Ionen werden mit einer Flugzeit-Massenspektrometer mit Reflektron nachgewiesen. Man erhält Bilder der elementspezifischen Zusammensetzung der Materialprobe mit einer lateralen Auflösung von 100 nm. Durch gezieltes Abtragen mit Hilfe der Gallium-Ionenquelle können Tiefenprofile aufgenommen werden, und man erhält ein dreidimensionales Bild der Probenzusammensetzung.