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Regensburg 1998 – scientific program

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O: Oberflächenphysik

O 11: Poster (I)

O 11.102: Poster

Monday, March 23, 1998, 19:30–22:30, Bereich C

Gap - Zustände in Wolframoxid WO3 - relaxierten Oberflächen — •T. Heller, O. Böhme und D. Schmeißer — Lehrstuhl für Angewandte Physik II - Sensorik, Brandenburgische Technische Universität Cottbus, D-03044 Cottbus

Vorgestellt werden Arbeiten an dünnen WO3-Schichten, die durch Verdampfen aus einer Knudsenzelle im UHV präpariert wurden. Diese Filme sind im Rahmen der XPS-Analysen stöchiometrisch, ohne Gap-Zustände. Definierte Gap-Zustände bilden sich durch Relaxierung der Oberfläche: nach einigen Stunden im UHV, nach Heizen in Argon-Atmosphäre und nach Belegung mit Natrium. Die Charakterisierung dieser definierten Wolframoxid-Schichten erfolgt durch: 1.)XPS-Intensitäten 2.)detailierte Analyse der W4f-Rumpfniveaus durch Synchrotronstrahlung (Bessy, TGM 7) 3.)die Variation der Austrittsarbeit beim Heizen und bei Natrium-Belegung 4.)das Auftreten von Gap-Zuständen in der Bandlücke

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