Regensburg 1998 – scientific programme

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O: Oberflächenphysik

O 38: Elektronische Struktur (Experiment und Theorie) (IV)

O 38.3: Talk

Friday, March 27, 1998, 11:45–12:00, H37

Untersuchungen der elektronischen Struktur von Rubidiumschichten auf der Silizium(100)-2x1-Oberfl"ache mittels winkelaufgel"oster UPS und IPS — •T. D"utemeyer, L. S. O. Johansson, and B. Reihl — Universit"at Dortmund, Experimentelle Physik I,
D-44221 Dortmund

Die elektronische Struktur der mit Rubidium bedeckten Silizium(100)-2x1-Oberfl"ache wurde mittels winkelaufgel"oster UPS und IPS untersucht. F"ur Submonolagenbedeckungen bildet sich ein Rubidium-induzierter Zustand aus, welcher f"ur zunehmende Bedeckungen zu niedrigeren Energien verschoben wird. Bei S"attigungsbedeckungen von Rubidium wird eine Dispersion des Zustandes entlang verschiedener Symmetrierichtungen der Oberfl"achen-Brillouinzone beobachtet, die der Dispersion freier Elektronen "ahnelt. Das Bandminimum schneidet die Fermi-Kante und f"uhrt "ahnlich wie beim System K/Si(100)-2x1 [1] zu einer Metallisierung der Oberfl"ache. Der Vergleich mit Ergebnissen an Alkalimetallschichten von Lithium bis Kalium [2] zeigt systematische Unterschiede der Oberfl"achenbandstruktur. Eine geringere Gr"o"se der Alkalimetallatome f"uhrt zu st"arkerer Adsorbat-Substrat-Wechselwirkung und geringerer Alkalimetall-Alkalimetall-Wechselwirkung.

[1] L. S. O. Johansson and B. Reihl, Phys. Rev. Lett. 67, 2191 (1991)

[2] L. S. O. Johansson and B. Reihl, Surf. Sci. 287/288, 524 (1993)