Heidelberg 1999 – wissenschaftliches Programm
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K: Kurzzeitphysik
K 7: Laser-Anwendungen/-Materialbearbeitung
K 7.3: Vortrag
Donnerstag, 18. März 1999, 17:00–17:15, GE1
Excimerlaser - Aktuelle Technologien und Anwendungen — •Michael Fiebig1, S. Borneis2, B. Becker-de Mos1, F. Voss1, U. Stamm1, M. Rahe1 und D. Basting1 — 1Lambda Physik GmbH, Hans-Böckler-Str. 12, D-37079 Göttingen — 2GSI Darmstadt, Planckstr.1, D-64291 Darmstadt
Der Excimerlaser als leistungsstärkste UV-Strahlungsquelle hat sich zu einem festen Bestandteil in Wissenschaft und Industrie etabliert. Neueste Anwendungen, wie das TFT-Annealing zur Herstellung von hochauflösenden Flachbildschirmen oder das Schreiben von optischen Gittern (Fiber Bragg Grating) in Lichtleitern für Anwendungen in der Telekommunikation und Sensorik, stellen besondere Anforderungen an das Lasersystem. Aktuelle Entwicklungen im Bereich der Excimer-Lasertechnik ermöglichen die industrielle Herstellung dieser Komponenten.
Vorgestellt werden die physikalisch-technischen Grundlagen der Lasersysteme und der Prozesse. Darüber hinaus werden die Perspektiven solcher Lasersysteme für Anwendungen in der Nanotechnologie diskutiert.