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P: Plasmaphysik

P 21: Plasmatechnologie (Poster)

P 21.1: Poster

Montag, 15. März 1999, 16:30–19:00, PY

Der Einfluss von He auf die physikalischen und chemischen Eigenschaften dielektrisch behinderter Entladungen — •H.-E. Wagner ¹, K. V. Kozlov² und P. Michel¹ — ¹Institut für Physik, Universität Greifswald, Domstrasse 10a, 17489 Greifswald — ²Abteilung für Chemie, Staatliche Universität Moskau, Lenin-Prospekt 85-5, 117234 Moskau, Russland

Der Einfluss der chemischen Zusammensetzung binärer CH₄ + He - Gemische auf die physikalischen Eigenschaften dielektrisch behinderter Entladungen wurde experimentell und theoretisch untersucht. Es kamen planare Anordnungen zum Einsatz (Frequenz 50 Hz ). Die reaktiven Gasgemische wurden mittels einer Zirkulationspumpe im geschlossenen System umgewälzt und gaschromatographisch analysiert. Es wurden m arkante Veränderungen in den Ladungs - Spannungs - Charakteristiken (Lissajous - Figuren) bei Variation des He - Anteils von 10% − 90% verbunden mit einem nichtlinearen Abfall der Zünd - und Betriebsspannungen registriert. Ausgehend von den Betriebsspannungen war es möglich, die mittlere Elektronenenergie in Abhängigkeit vom He - Anteil zu berechnen. Sie steigt im angegebenen Zumischungsbereich monoton mit dem He - Anteil von ca. 4.7 eV auf 5 eV an und bewirkt eine signifikante Erhöhung der energetischen Effektivität der Entladung bzgl. der Synthese organischer Verbindungen (z.B. von C₂H₂, C₂H₄, C₂H₆)