Heidelberg 1999 – scientific programme

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Q: Quantenoptik

Q 39: Poster: Atomoptik

Q 39.6: Poster

Thursday, March 18, 1999, 16:30–18:30, PH

Lichtmasken für die Atomlithographie — •B. Brezger, P. O. Schmidt, Th. Schulze, R. Mertens, Tilman Pfau und J. Mlynek — Universität Konstanz, Fach M 696, 78457 Konstanz

Strukturgebendes Element in der Atomlithographie ist eine Lichtmaske, in der neutrale Atome in die gewünschte Struktur fokussiert werden. Die magnetische Unterstruktur des verwendeten atomaren Übergangs führt dabei zu einer starken Abhängigkeit der Atom-Licht-Wechselwirkung von Lichtpolarisation und Magnetfeldern. Dies erlaubt die Strukturierung mit Perioden kleiner als die halbe Lichtwellenlänge, die in der Intensitätsverteilung nicht auftreten können.

Wir stellen theoretische Untersuchungen und Simulationsergebnisse zur ein- und zweidimensionalen atomlithographischen Strukturierung vor, die die interne quantenmechanische Vielniveau-Dynamik in beliebigen Polarisationsgradienten und statischen Magnetfeldern modellieren. Die hierbei verwendete adiabatische Näherung wird quantitativ überprüft.