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DS: Dünne Schichten

DS 17: Charakterisierung mittels SXM-Techniken II

DS 17.1: Fachvortrag

Dienstag, 23. März 1999, 11:15–11:30, PC 7

Kalibrierstandard zur Charakterisierung von SNOM-Sensoren — •A. Vollkopf, O. Rudow und E. Oesterschulze — Universität Gesamthochschule Kassel, Institut für Technische Physik, Heinrich-Plett-Strasse 40, 34109 Kassel

Die Interpretation der mit einem Raster-Nahfeld-Mikroskop generierten Ergebnisse erfordert die Kenntnis der optischen Übertragungseigenschaften des jeweiligen Sensors. Während Untersuchungen im REM lediglich eine Abschätzung etwa der Aperturgröße zulassen, erlauben Fernfeld-Untersuchungen die Abstrahlcharakteristik des Sensors zu vermessen, um somit z.B. im Falle des Apertursensors auf Form und Größe der Apertur zu schließen. Dahingegen ermöglicht ein Kalibrierstandard, die optische Transmission des Sensors direkt in dessen Nahfeld zu messen, um anschließend aus dem gewonnenen optischen Signal, das durch eine Faltung zwischen Sensor und Standard entsteht, die Größe der Apertur zu berechnen. Dies gelingt um so genauer, je exakter die Struktur des Standards definiert ist.
Im Rahmen dieses Beitrages soll ein auf der Basis der etablierten Silizium-Mikrosystem-Technologie entwickelter Standard vorgestellt werden, der solche definierte Strukturen aufweist. Ziel ist es, mit Hilfe dieser Teststruktur Aperturgrößen mit einer Genauigkeit im Bereich von 10 nm zu bestimmen.