Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 30: Metallische Schichten

DS 30.4: Fachvortrag

Donnerstag, 25. März 1999, 16:15–16:30, PC 7

Laserdeposition metallischer Schichten in Ar-Gas — •K. Sturm, S. Fähler, M. Störmer und H. U. Krebs — Institut für Metallphysik, Universität Göttingen, Hospitalstr. 3-7, 37073 Göttingen, und SFB 345

Die gepulste Laserdeposition im UHV zeichnet sich durch eine hohe kinetische Energie (>100 eV) der deponierten Ionen aus. Unter Gasatmosphäre können diese hohen Energien reduziert werden. Interessanterweise sind die hierzu benötigten Gasdrücke jedoch etwa zwei Größenordnungen höher (ca. 0.1-1 mbar), als es die freie Weglänge der Ionen erwarten läßt. Es werden Messungen zum Einfluß des Gases auf den Depositionsvorgang und die Eigenschaften der Filme vorgestellt und diskutiert.