Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 33: Postersitzung

DS 33.24: Poster

Dienstag, 23. März 1999, 09:30–17:30, Aula

Grenzflächeneigenschaften von Metalloxid / SAM - Schichtsystemen: Röntgenreflektivitätsmessungen — •K.-P. Just, F. Schreiber, J. Wolff, T. Niesen, F. Aldinger und H. Dosch — Max-Planck-Institut für Metallforschung, 70569 Stuttgart

Metalloxidschichten (ZrO₂) verschiedener Dicke (200 … 500 Å) wurden aus wässriger Lösung auf SAMs (self-assembled monolayers) abgeschieden. Die Anbindung erfolgte dabei an die Sulfo-Endgruppe des SAMs, welcher seinerseits auf oxidierten Si-Wafern aufgebracht ist. Die Schichtdicken und Grenzflächenrauhigkeiten, die bei diesem auch für viele Anwendungen attraktiven Konzept der Herstellung dünner Oxidschichten entstehen, wurden mittels Röntgenreflektivität bestimmt. Die SiO_x / SAM – und die SAM / ZrO₂ – Grenzflächen weisen erwartungsgemäß Rauhigkeiten im Bereich nur einiger Å auf. Die Rauhigkeit der ZrO₂ – Schicht ist im wesentlichen durch die Kristallitgröße von einigen 10 Å beschränkt. Die Analyse der Elektronendichte ergibt nur etwa 55 % des Volumenwertes von ZrO₂, was auf einen signifikanten Anteil an Zwischenvolumina hinweist. Zur Bestimmung der thermischen Stabilität der Grenzflächen wurden Temperexperimente durchgeführt.