Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

DS: Dünne Schichten

DS 33: Postersitzung

DS 33.25: Poster

Dienstag, 23. März 1999, 09:30–17:30, Aula

Pulsed Force Rasterkraftmikroskopie: Charakterisierung von lateral strukurierten Si-Oberflächen mittels Mikrokontaktdruck-Technik — •P. Barth, H.-U. Krotil, S. Hild und O. Marti — Abteilung Experimentelle Physik, Universität Ulm, D-89069 Ulm

Zur Herstellung von strukturierten Oberflächen mit selbstorganisierenden ultradünnen Schichten ist die Mikrokontaktdruck-Technik (microcontact-printing, µCP) sehr vielversprechend. Selbstorganisierende niedermolekulare organische Moleküle werden dabei mit Hilfe eines Polymerstempels auf die zu strukturierende Oberfläche aufgebracht. Die Stempel aus Silikonkautschuk sind Negativreplika aus lithographisch strukturierten Siliziummastern. Ziel dieser Arbeit ist es, auf Silizium per Elektronenstrahllithographie laterale Strukturen hinunter bis zu 100 nm herzustellen, um so Aufschluß ueber die minimale Strukturgröße des abgeformten Stempels zu bekommen, mit der noch definierte Silanstrukturen erzeugt werden können. Dabei stellt das Aspektverhältnis der Stempelstrukturen einen limitierender Faktor fuer die Moleküleübertragung dar und muß mitberücksichtigt werden. Die Güte der Silanstrukturen werden mit der Pulsed Force Rasterkraftmikroskopie untersucht. Anhand von Reibungs- bzw. Adhäsionsuntersuchungen wird der Einfluß von Luftfeuchtigkeit und Temperatur auf den Übertragungsmechanismus des Polymerstempels sowie auf die spätere Stabilität der Silanschichten untersucht.