Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 33: Postersitzung

DS 33.8: Poster

Dienstag, 23. März 1999, 09:30–17:30, Aula

In situ Messung mechanischer Spannungen in dünnen Schichten während der Abscheidung — •Wolfgang Fukarek, Clemens Fitz und Wolfhard Möller — Institut für Ionenstrahlphysik und Materialforschung, FZ-Rossendorf, Postfach 510119, 01314 Dresden

Es wird eine optische Meßanordnung für die in situ Messung mechanischer Spannungen in dünnen Schichten vorgestellt. Das Meßsystem stellt eine Kombination aus differentieller Triangulation und Reflektometrie dar, wodurch gleichzeitig mit der Stressmessung eine Abschätzung der Schichtdicke möglich ist. Das System kann bei allen bekannten Beschichtungsverfahren sowie bei der Ionenimplantation in einem sehr großen Temperaturbereich eingesetzt werden. Am Beispiel von Messungen während der Ionenimplantation in Silizium wird die Leistungsfähigkeit des Systemes demonstriert. In situ Messungen während der Abscheidung von Bornitrid-Schichten mit Ionenstrahl-gestützter Deposition (IBAD) zeigen klar unterscheidbare Phasen beim Wachstum der Schichten. Es wird versucht, die einzelnen Phasen beim BN-Schichtwachstum anhand der gewonnen Daten genauer zu charakterisieren.