Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 30: Teilchen und Cluster (II)

O 30.4: Vortrag

Donnerstag, 25. März 1999, 15:15–15:30, S1

Clustersputtern: Bearbeiten und Polieren mittels Nanosandstrahlen — •Eva Oettinger, Davor Stolcic und Gerd Ganteför — Fakultät für Physik, Universität Konstanz, 78457 Konstanz

Das Sputtern mit Atomionen ist eine der Standardmethoden der

Oberflächenbearbeitung. Es gibt Hinweise /1,2/ darauf, dass bei einer

Verwendung von grösseren Teilchen mit mehreren

Nanometern Durchmesser (Clustern) höhere

Abtragsraten und eine zusätzliche Glättung erreicht werden können.

Zum systematischen Studium dieser Effekte haben wir eine

intensive Clusterionenquelle aufgebaut und präsentieren erste

Ergebnisse der Oberflaechenbearbeitung.

/1/ W.Henkes, B.Krevet, J.Vac.Sci.Technol. A 13(4), 2133(1995)

/2/ T.Yamaguchi et al., Nucl.Instr. and Meth. B 99, 237(1995)

/3/ J.Matsuo et al., Nucl.Instr. and Meth. B 121, 495(1997)