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Münster 1999 – scientific programme

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O: Oberflächenphysik

O 33: Oberfl
ächenreaktionen (II)

Thursday, March 25, 1999, 16:15–18:15, S1

16:15 O 33.1 Streuung langsamer Molekülionen an Pd und C (Diamant) — •JÜRGEN SCHEER, KARSTEN BRÜNING, WERNER HEILAND, THEODOR FRÖHLICH und PETER WURZ
16:30 O 33.2 Metastabilenspektroskopie an metastabilen Cs+O-Phasen auf Ru(0001) — •H. Over, A. Morgante, Y. Zhu, S. Wendt, Y.D. Kim, S. Schwegmann, H. Bludau und G. Ertl
16:45 O 33.3 Reaktivität von As- und S-Oberflächenplätzen des Arsenopyrits (FeAsS) gegenüber Sauerstoff — •A.G. Schaufuß, H.W. Nesbitt, G.M. Bancroft und R. Szargan
17:00 O 33.4 O+-PSD durch Innerschalenanregung: TOF-Messung der Translationsenergie — •Ruth Weimar, B. Kassühlke, R. Romberg und P. Feulner
17:15 O 33.5 Interaction Between Phosphorus and Oxygen in Silicon — •Jarek Dabrowski and Hans-Joachim Müssig
17:30 O 33.6 Photoinduzierte Reaktionen von Adsorbaten auf Pd/Al2O3 Modellkatalysatoren — •M. Kampling, K. Al-Shamery, K. Watanabe, Y. Matsumoto und H.-J. Freund
17:45 O 33.7 Anfangsstadien des CVD-Oxidwachstums auf Si(111)-(7x7) und Si(100)-(2x1) — •H. Rauscher, J. Spitzmüller, J. Braun und R. J. Behm
18:00 O 33.8 Femtosekunden–laserinduzierte Oberflächenreaktionen: Einfluß der Elektronen– und Gitter–Temperatur — •D. Denzler, M. Bonn, S. Funk, Ch. Hess, M. Wolf, G. Ertl, J. Hohlfeld, S.-S. Wellershoff und E. Matthias
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