Münster 1999 – wissenschaftliches Programm
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O: Oberflächenphysik
O 36: Poster (II)
O 36.71: Poster
Donnerstag, 25. März 1999, 20:00–22:30, Zelt
Gezielte lokale Oberflächenstrukturierung mittels elektrochemischer Metallabscheidung — •A. Bunk1, A.-D. Müller1, F. Müller2 und M. Hietschold1 — 1Institut für Physik, Technische Universität, 09107 Chemnitz — 2Institut für Anorganische Chemie, Universität Essen, 45117 Essen
Unter potentiostatischer Kontrolle wurden aus einer elektrolytbefüllten Kapillare Kupfer-Mikrostrukturen auf Metall- und Halbleiteroberflächen lokal abgeschieden. Das Abscheidungsverhalten wurde durch Variation der relevanten Parameter systematisch untersucht. Als wichtigste Abscheidungsparameter wurden Potentialdifferenzen, Elektrodenabstände, Elektrolytdurchflussgeschwindigkeit und Substratvorschubgeschwindigkeit betrachtet. Erste Ergebnisse zur weiteren Miniaturisierung und zur numerischen Simulation werden vorgestellt.